'

ЗАО «ЭПИЭЛ»

Понравилась презентация – покажи это...





Слайд 0

ЗАО «ЭПИЭЛ» февраль 2010 презентация компании и результатов разработки КНС Ф100 и 150 мм Чумак Вячеслав Данилович главный конструктор структур КНС


Слайд 1

КРАТКО О КОМПАНИИ ГОД ОСНОВАНИЯ РАСПОЛОЖЕНИЕ Зеленоград, Москва, РФ ПРОДУКЦИЯ ПЕРСОНАЛ Высококлассные специалисты в области эпитаксии с многолетним опытом работы ЗАО «Эпиэл» - российский лидер в производстве кремниевых эпитаксиальных структур и партнер ведущих производителей микроэлектронных приборов России и СНГ 1998


Слайд 2

В компании работает 110 человек в нашей исследовательской лаборатории 10 инженеров-исследователей и научных сотрудников работают над совершенствованием эпитаксиальных технологий, среди них - 7 обладателей ученых степеней опыт наших ведущих специалистов в эпитаксии – более 30 лет 80% сотрудников непосредственно участвуют в процессе производства и разработке новых продуктов НАШ ПЕРСОНАЛ


Слайд 3

ПРОДУКЦИЯ 2000 2002 2004 2006 2008 ИС Диоды Мало-сигнальные транзисторы IGBT Диоды Шоттки Силовые транзисторы ДМОП Ультра-быстрые диоды Тензомодули (76 и 100мм) СБИС спец. назначения (100мм) Система менеджмента качества Кремниевые эпиструктуры (применение) Cтруктуры КНС (применение) 1998 2010 СБИС спец. Назначения (150мм) ИС 130-180 нм (200мм) запуск в 2010 - запуск в 2010 - ISO 9001:2008 (с конца 2009) ISO 9001:2000 ISO 9002:1994


Слайд 4

ЗАО «ЭПИЭЛ» - партнер ведущих производителей микроприборов в России и СНГ: ЭПИЭЛ В ОТРАСЛИ Кремниевые пластины Эпитаксиальные структуры и эписервис Полупроводниковые приборы Потребительская, Промышленная и Военная электроника ОАО «НИИМЭ и Микрон», Москва, РФ ОАО «Ангстрем», Москва, РФ ЗАО «ВЗПП Микрон», Воронеж, РФ НПО «Интеграл», Минск, Беларусь ФГУП «ГЗ Пульсар», Москва, РФ


Слайд 5

Эпитаксиальные структуры мирового уровня диаметром 100, 125 и 150 мм PE2061 S PE2061 PE2061 S PE2061 S PE2061 PE2061 S Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар Эпиквар 2001 2004 2007 ЛИНИЯ A ЛИНИЯ Б Эпитаксиальные структуры диаметром 76 и 100 мм ПРОИЗВОДСТВЕННЫЕ МОЩНОСТИ Импортное оборудование Отечественное модернизированное оборудование Эпиквар Эпиквар Эпиквар 1998


Слайд 6

Максимальное кол-во в месяц, шт 27 000 45 000 57 000 60 000 100 000 Максимальное кол-во в месяц, шт ПРОИЗВОДСТВЕННЫЕ МОЩНОСТИ ЛИНИЯ A ЛИНИЯ Б 3 установки 6 установок Диаметр Диаметр 100 125 150 76 100


Слайд 7

4-х зондовый измеритель (RS30 Omni Map, ResMap178) Измеритель сопротивления растекания (SSM130) Измеритель пробивного напряжения эпислоя CV-измеритель (SSM 495) Фурье-спектральный измеритель (ФС1201П) Установка контроля качества поверхности (Reflex300, Reflex375) Микроскопия («Jenatech», «Ergolux», «Latimet») ЗАО «ЭПИЭЛ» имеет собственную исследовательскую лабораторию проведения исследований и разработок в сфере эпитаксиальных технологий ПАРК ИЗМЕРИТЕЛЬНОГО ОБОРУДОВАНИЯ


Слайд 8

Параметры структур соответствуют требованиям стандартов SEMI ПАРАМЕТРЫ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР Структуры Кремний на Кремнии


Слайд 9

* - в 2009 году мы освоили производство структур КНС диаметром 100 и 150 мм с толщиной кремниевого слоя 0,3 мкм ПАРАМЕТРЫ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР Структуры Кремний на Сапфире


Слайд 10

Параметры эпитаксиальных структур соответствуют международным стандартам SEMI для дискретных приборов Методы измерения и контроля полностью соответствуют стандартам ASTM Система менеджмента качества сертифицирована на соответствие стандарту ISO 9001:2008 Индивидуальный подход и тесное взаимодействие с Заказчиком по вопросам качества продукции Гарантированное выполнение согласованных с заказчиком требований КАЧЕСТВО – НАШ ПРИОРИТЕТ №1 КАЧЕСТВО ПРОДУКЦИИ РАБОТА С ЗАКАЗЧИКОМ


Слайд 11

НАШ СЕРТИФИКАТ ISO 9001:2008


Слайд 12

ЗОНА ЗАГРУЗКИ ПЛАСТИН Чистое производственное помещение


Слайд 13

Установки PE2061S - вид из зоны обслуживания Силовые генераторы ЗОНА ОБСЛУЖИВАНИЯ ОБОРУДОВАНИЯ


Слайд 14

Газовые панели Испарители Панели управления СИСТЕМЫ ПОДАЧИ И РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ХЛОРИДОВ


Слайд 15

Газовый шкаф и панель для PH3 Автоматический шкаф для HCl СИСТЕМА ПОДАЧИ И РАСПРЕДЕЛЕНИЯ HCl & PH3


Слайд 16

Очистка водорода Точка росы ? минус 100?C Панель управления СИСТЕМА ДООЧИСТКИ ВОДОРОДА


Слайд 17


Слайд 18

ГЕОМЕТРИЯ ПЛАСТИН ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ ОКР «ФИЕСТА»


Слайд 19

ЭПИТАКСИАЛЬНЫЙ СЛОЙ ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ ОКР «ФИЕСТА»


Слайд 20

ПАРАМЕТРЫ ЭС, ВЫПУСКАЕМЫХ НА УСТАНОВКЕ PE 2061S


Слайд 21

ОДНОРОДНОСТЬ ТОЛЩИНЫ ЭС, ВЫПУСКАЕМЫХ НА УСТАНОВКЕ PE 2061S


Слайд 22

Изменение толщины ГЭС по площади структур КНС Ф150 мм при изменении плана контроля (9 > 5 точек контроля) ИЗМЕНЕНИЕ ПЛАНА КОНТРОЛЯ


Слайд 23

ОДНОРОДНОСТЬ ТОЛЩИНЫ ГЭС КНС Ф150 ММ Распределение толщины слоя кремния по площади пластины (верхний ярус, контроль по 9 точкам)


Слайд 24

ОДНОРОДНОСТЬ ТОЛЩИНЫ ГЭС КНС Ф150 ММ Распределение толщины слоя кремния по площади пластины (нижний ярус, контроль по 9 точкам)


Слайд 25

НАПРАВЛЕНИЕ ДАЛЬНЕЙШИХ РАБОТ Повышение воспроизводимости и однородности параметров кремниевых слоев в структурах КНС Ф150 мм. Разработка промышленного метода контроля остаточных загрязнений (частиц) на пластинах сапфира и структурах КНС ( по типу Surfscan для кремния). Разработка метода контроля и технологии удаления статического заряда на пластинах сапфира и структурах КНС. Разработка установки контроля границы раздела «кремний – сапфир» методом фото-ЭДС с применением картографирования поверхности. Разработка структур КНС Ф150 мм с улучшенным кристаллическим совершенством границы раздела «кремний – сапфир». Разработка структур КНС Ф150 мм с ультратонким приборным слоем.


Слайд 26

Спасибо за внимание! 124460, Москва, Зеленоград, 1-й Западный проезд 12, строение 2 Тел.: (495) 229-7303 Факс: (495) 229-7302 www.epiel.ru sales@epiel.ru ЗАО «ЭПИЭЛ»


×

HTML:





Ссылка: