'

IX Международный семинар по проблемам ускорителей заряженных частиц памяти В.П.Саранцева

Понравилась презентация – покажи это...





Слайд 0

IX Международный семинар по проблемам ускорителей заряженных частиц памяти В.П.Саранцева EXPERIMENTAL STUDIES OF SECONDARY ELECTRON-ELECTRON EMISSION BY VACUUM CHAMBER SURFACE A.Yu. Rudakov, I.N. Meshkov JINR DNLP Dubna 2011 1/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер


Слайд 1

2/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Contents 1. Secondary emission 2. Secondary electron yield (SEY) 3. Electron-cloud effect 4. The experiment on SEY measurement 5. Test-bench “Recuperator” 6. Experiment description 7. Experiment results.


Слайд 2

Number of secondary electron vs Energy of primary electron 3/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Secondary emission Typical SEE spectrum Energy groups: a) - truly secondary e- b) - inelastic e- c) - elastic e- Secondary Electron Emission is the emission of electrons by the surface of a solid object when it is bombarded by electrons. It was discovered in 1902 by the German physicists L. Austin and H. Starke. The electrons bombarding the object are called primary, and the emitted electrons are called secondary. Some of the primary electrons are reflected without energy loss (elastically reflected primaries), and the remaining electrons are reflected with a loss of energy; the energy is mainly consumed in exciting the electrons of the solid object to higher energy levels. If the electrons’ energy and momentum prove to be sufficiently great to surmount the potential barrier on the surface of the object, they leave the surface (truly secondary).


Слайд 3

N1, I1 – primary electrons (incident electrons) N2, I2 – secondary electrons (leaving the surface) Secondary electron yield as a function of primary electron energy 4/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Secondary Electron Yield (SEY)


Слайд 4

Electron cloud density depends on effective secondary electron yield of material of coating vacuum chamber. The formation of electron clouds can be simulated by specialized software (eg ECLOUD) 5/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Electron-cloud effect Electron cloud effects are expected to be enhanced and play a central role in limiting the performance of the collider at the NICA complex. Electron cloud phenomena in beam pipes are based on electron multiplication and can be sufficiently suppressed if the Secondary Electron Yield (SEY) of the surface of the beam pipes is lower than unity. The goal of this work is to find and study a thin film coating with reliably low initial SEY, which does not require bake-out or conditioning in situ with photons, is robust against air exposure and can easily be applied in the beam pipes of accelerators.


Слайд 5

6/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Electron clouds accumulation


Слайд 6

К E2=Ea+Uo E2=Ec+Uo 7/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Scheme of the experiment on SEY measurement


Слайд 7

Calculation of displacement of the secondary electron 8/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер


Слайд 8

9/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер The displacement of the secondary electrons


Слайд 9

Scheme of the set up for SEY measurement 10/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер


Слайд 10

11/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Scheme of the set up for SEY measurement (cont.)


Слайд 11

1 – Vacuum chamber 2 – Samples 3 – Luminescent screen 4 – Vacuum feed through 12/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Samples mounting


Слайд 12

13/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Test Bench «Recuperator» electron gun target HV power supply of TB


Слайд 13

14/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер SEY from the surfaces of the samples was measured under the following conditions: 1. Образцы «подвешивались» под отрицательный потенциал. При этом потенциал катода и образца изменялись так, что сохранялась величина энергии электронов, падающих на пластину-образец. 2. Очистка пластин-образцов производилась электронным пучком а) на измеряемой энергии б) по всему диапазону энергии от 50 эВ до потенциала катода с шагом 50эВ 3. Ток электронного пучка: а) Постоянный ­– при очистке пластин-образцов и измерении КВЭЭ б) Импульсный – при измерении тока вторичных электронов без очистки образца. В данном режиме ток первичных электронов не измерялся SEY Experiment description


Слайд 14

15/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Electron Stimulated Desorption (ESD): The Surface Cleaning SEY P = 10-8 Torr


Слайд 15

16/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер wo – sample without coating (control) with – sample with coating TiN Cleaning the sample was carried out only at the measurement energy q/S ? 10 mC/mm2 SEY P = 10-8 Torr


Слайд 16

17/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер SEY q/S ? 10 mC/mm2 P = 10-8 Torr wo – sample without coating (control) with – sample with coating TiN Cleaning the sample was carried out with the measurement of energy spectrum


Слайд 17

Стенд «Рекуператор» введён в эксплуатацию в начале 2011. Отработана методика измерения тока вторичных электронов 18/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Work done


Слайд 18

19/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Ближайшие планы: 1. Измерения КВЭЭ с пластин при активации образцов омическим нагревом. Изменение КВЭЭ от времени нахождения в вакууме после активации. Измерения провести при достигнутом вакууме: 10-7 ? 10-9 Тор Экстраполировать полученные результаты на вакуум 10-10 Тор 2. Измерения при вакууме 10-10 Тор и лучше с использованием криогенного насоса. 3. Отработка методик очистки поверхностей электронным пучком. 4. Работа с покрытиями другого состава: TiZrV, TiCN, TiZr (сотрудничество c Госкорпорацией «Порошковая металлургия», г.Минск) Next time…


Слайд 19

20/20 А.Ю. Рудаков, Исследования вторичной электронной эмиссии с поверхности вакуумных камер Thank you for attention


×

HTML:





Ссылка: