'

Дефекто-примесная инженерия в ионно-имплантированном кремнии

Понравилась презентация – покажи это...





Слайд 0

Дефекто-примесная инженерия в ионно-имплантированном кремнии Комаров Фадей Фадеевич Мильчанин Олег Владимирович Цель: исследовать процессы электрической активации и диффузии атомов легирующей примеси, формирования и эволюции вторичных дефектов структуры в тонких слоях кремния при низкоэнергетичной имплантации ионов и последующей термообработке, а также при использовании подходов, позволяющих снижать неравновесную ускоренную диффузию легирующей примеси. Задачи: исследовать основные закономерности диффузионного перераспределения атомов легирующей примеси при различных температурах и длительностях отжига; исследовать процессы дефектообразования при низкоэнергетичной имплантации легирующей примеси и последующей термообработки; разработать и оптимизировать режимы дополнительных низкотемпературных обработок и совместной имплантации ионов углерода с целью снизить неравновесную ускоренную диффузию легирующей примеси при отжиге имплантированных слоев кремния


Слайд 1

2 Емкость DRAM и размер элементов МОП-ПТ. Прогноз Ассоциации Полупроводниковой Промышленности (Semiconductor Industry Association – SIA) Пути решения: 1) Создание новых методов формирования p-n переходов PIII - плазменная иммерсионная ионная имплантация; P-GILD – проецированное газово-иммерсионное лазерное легирование; RVD – быстрое газо-фазное легирование; B10H12 – кластерная имплантация. 2) Развитие стандартной кремниевой технологии – низкоэнергетичная ионная имплантация. Основная тенденция развития микроэлектроники – уменьшение вертикальных и линейных размеров легированных областей в кремниевой подложке. УМЕНЬШЕНИЕ РАЗМЕРОВ ЛЕГИРОВАННЫХ ОБЛАСТЕЙ


Слайд 2

3 ТРАДИЦИОННАЯ ТЕХНОЛОГИЯ ЛЕГИРОВАНИЯ 1. Низкоэнергетическая ионная имплантация Влияние эффекта каналирования на профили бора Проблемы: эффект каналирования дефекты структуры Влияние массы ионов на формирование аморфного слоя в кремнии


Слайд 3

4 ТРАДИЦИОННАЯ ТЕХНОЛОГИЯ ЛЕГИРОВАНИЯ 2. Термообработка Проблемы: неравновесная ускоренная диффузия примеси; компромисс между максимальной степенью активации примеси, минимальной диффузией примеси, полным отжигом структурных дефектов Диффузия в кремнии: (a) – условия равновесной диффузии; (b) – неравновесная ускоренная диффузия (TED) атомов бора


Слайд 4

5 НЕРАВНОВЕСНАЯ УСКОРЕННАЯ ДИФФУЗИЯ Основные характеристики НУД: 1) Диффузионная способность легирующей примеси может быть в 102 –106 раз выше, чем равновесная величина; 2) Диффузионная способность уменьшается со временем – вплоть до равновесной величины. Причина явления НУД: Формирование подвижных комплексов «атом примеси» –«междоузельный атом кремния», за счет вытеснения избыточными собственными междоузельными атомами (СМА) кремния примеси из замещающих положений в решетке. Диффузионная способность легирующей примеси пропорциональна концентрации СМА кремния.


Слайд 5

6 ДЕФЕКТЫ СТРУКТУРЫ Отжиг неаморфизованного слоя I-V-пары –> кластеры дефектов (междоузельного типа) –> {311}-дефекты –> СМА. Время отжига {311}-дефектов: 950 °С – десятки секунд; 800 °С – десятки минут. Отжиг аморфного кремния Полная рекристаллизация а-Si от границы раздела a-Si/c-Si к поверхности происходит при 550 °С. Область под границей раздела а-Si/с-Si – вторичные дефекты структуры (дислокационные петли (ДП) и {311}-дефекты). 700 °С: ДП + {311}-дефекты. 800 °С: доминирующие дефекты – ДП. Стабильность ДП при 900 °С – несколько часов, при 1050 °С – несколько секунд Активация примеси Время активации при быстром термическом отжиге (БТО): 1000 °С – несколько секунд, 800 °С – десятки минут


Слайд 6

7 1. Скорость набора дозы Увеличение генерации дефектов, что позволяет получать аморфные слои при меньших дозах имплантации. Уменьшение слоевого сопротивления. Увеличение степени активации примеси. 2. Двухступенчатый отжиг 1) 500-600 °С, 30-60 минут – удаление точечных дефектов от границы a-Si/с-Si, рекристаллизация a-Si. 2) 900-1050 °С БТО – активация легирующей примеси. 3. Предварительная аморфизация ионами Si+ или Ge+ Аморфные слои подавляют каналирование имплантированных ионов легирующих примесей, особенно легких ионов, и как следствие уменьшают глубину залегания имплантационного профиля. НОВЫЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРИЕМЫ ПРИ СОЗДАНИИ МЕЛКОЗАЛЕГАЮЩИХ P-N-ПЕРЕХОДОВ В КРЕМНИИ


Слайд 7

8 4. Сверхбыстрый нагрев при БТО Получают переходы с меньшей глубиной залегания и меньшим количеством дефектов. Причина эффекта – энергия активации процесса диффузии легирующей примеси меньше, чем энергия активации для процесса отжига дефектов. 5. Совместная имплантация А) BF2: Использование ионов BF2+ позволяет в 49/11 раз использовать большую энергию имплантации по сравнению с ионами B+, без увеличения глубины легирования. Аморфизация слоев кремния в процессе имплантации тяжелых ионов BF2+. Б) Азот: Уменьшение деградации подзатворного окисла, вызванной присутствием F – уменьшение диффузии атомов бора в затвор. В) Углерод: Высокая геттерирующая способность углерода к СМА кремния. Г) Германий: Эффективная пред-аморфизация кремния, при относительно малых дозах – граница раздела а-с Si является резкой. Компенсация напряжений в кремнии, создаваемых имплантацией ионов бора. НОВЫЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРИЕМЫ ПРИ СОЗДАНИИ МЕЛКОЗАЛЕГАЮЩИХ P-N-ПЕРЕХОДОВ В КРЕМНИИ


Слайд 8

9 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Электронные микрофотографии кремния, имплантированного ионами В+


Слайд 9

10 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Изменение периода решетки ?а в имплантированном кремнии в зависимости от плотности тока ионов Jэф.: 1 – В+, Ф = 1,8·1015 см–2; 2 – С+, Ф = 4·1014 см–2 1 2


Слайд 10

11 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Доля атомов углерода в узлах решетки кремния в зависимости от плотности ионного тока


Слайд 11

12 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Восстановление периода решетки в кремнии, имплантированном ионами В+ 1 – Si:P, ?0= 0,5 Ом·см; Jэф.=0,04 мкА/см2 2 – Si:P, ?0= 0,5 Ом·см; Jэф.=2 мкА/см2 3 – Si:В, ?0= 0,005 Ом·см; Jэф.=0,2 мкА/см2


Слайд 12

13 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ


Слайд 13

14 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ


Слайд 14

15 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ


Слайд 15

16 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ


Слайд 16

17 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ


Слайд 17

18 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Электрическая активация имплантированных атомов бора (1, 2) и фосфора (3, 4); 2, 4 – отжиг с подсветкой электронами


Слайд 18

19 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Движение атома Si в кремнии в поле упругих деформаций, создаваемых примесью замещения


Слайд 19

20 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ


Слайд 20

21 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Зависимость коэффициента усиления горизонтальных транзисторов от напряжения на базе для опытной (3 шага) и текущей (1 шаг) партии


Слайд 21

22 ДЕФЕКТО-ПРИМЕСНАЯ ИНЖЕНЕРИЯ Обратная ветвь вольт-амперной характеристики входных планарных диодов на опытной (3 шага) и текущей (1 шаг) пластинах


Слайд 22

23 Имплантация: ионы Sb+: 60 кэВ, 1.25?1014 см-2; ионы P+: 20 кэВ, 8.13?1014 см-2. Отжиг: 550 °С, 30 мин.; 850 °С, 30 мин. В исследованиях для предварительной аморфизации использовали имплантацию сурьмы: А) ионы сурьмы имеют большую массу; Б) сурьма легирующая донорная примесь; В) имплантация сурьмы технологически хорошо отработана; Г) одновременное введение сурьмы и фосфора должно приводить к компенсации напряжений. РЕЗУЛЬТАТЫ: 1) Очень резкий n+-p-переход с глубиной залегания 210 нм. 2) Не обнаружено вторичных дефектов структуры. ДВОЙНАЯ ИМПЛАНТАЦИЯ СУРЬМЫ И ФОСФОРА КАК МЕТОД СОЗДАНИЯ ТОНКИХ n+ СЛОЕВ В КРЕМНИИ Профили распределения электрически активной примеси после имплантации и термообработки в (100) кремнии (КДБ-10)


Слайд 23

24 ИСПОЛЬЗОВАНИЕ ДОПОЛНИТЕЛЬНЫХ РЕЖИМОВ ТЕРМООБРАБОТКИ ФОРМИРОВАНИЕ МЕЛКОЗАЛЕГАЮЩИХ p+-n – ПЕРЕХОДОВ В КРЕМНИИ Профили электрически активного бора в p+-n переходах, сформированных имплантацией ионов BF2+ (20 кэВ, 5х1014 см-2) и последующего термического отжига.


Слайд 24

25 ИСПОЛЬЗОВАНИЕ СОВМЕСТНОЙ С ИОНАМИ BF2+ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНОВ УГЛЕРОДА Профили электрически активного бора в p+-n переходах. Имплантация: BF2+ (20 кэВ, 5х1014 см-2) (кривая 3); С+ (А - 30 кэВ, 5х1014 см-2, Б - 20 кэВ, 4х1014 см-2) (кривые 1-2) и последующего термического отжига: 1) 850 °С, 60 минут, N2 (кривая 1). 2) 600 °С, 60 минут; 1000 °С, 2 минуты; 850 °С, 60 минут; N2 (кривые 2-3). А Б


Слайд 25

26 ИСПОЛЬЗОВАНИЕ СОВМЕСТНОЙ С ИОНАМИ BF2+ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНОВ УГЛЕРОДА Значения слоевого сопротивления и слоевой концентрации в p+-n переходах в зависимости от режимов их формирования


Слайд 26

27 ИСПОЛЬЗОВАНИЕ СОВМЕСТНОЙ С ИОНАМИ BF2+ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНОВ УГЛЕРОДА Светлопольные микрофотографии структуры кремния. Имплантация ионов BF2+ (20 кэВ, 5х1014 см-2) и С+ (20 кэВ, 4х1014 см-2) – В, Г. Термообработка: 1) 850 °С – 60 минут, в среде N2 – А, В. 2) 600 °С – 60 минут, 1000 °С – 2 минуты, 850 °С – 60 минут, в среде N2 – Б,Г. В


Слайд 27

28 УМЕНЬШЕНИЕ НЕРАВНОВЕСНОЙ УСКОРЕННОЙ ДИФФУЗИИ ЛЕГИРУЮЩЕЙ ПРИМЕСИ ПРИ СОЗДАНИИ P-N – ПЕРЕХОДОВ Таким образом, показана принципиальная возможность улучшения структурных и электрофизических свойств формируемых p-n – переходов в кремнии с использованием: - Предварительных режимов термообработки; - Совместной имплантации примеси, замедляющей неравновесную ускоренную диффузию легирующей примеси. Перспективные направления исследований: Исследовать процессы дефектообразования и диффузии при низкоэнергетичной имплантации легирующей примеси и последующей термообработке Исследовать влияние режимов предварительной аморфизации слоев кремния при создании мелкозалегающих p-n-переходов Разработать и исследовать режимы дополнительных низкотемпературных обработок с целью снизить неравновесную ускоренную диффузию легирующей примеси при отжиге имплантированных слоев кремния Исследовать влияние БТО на процесс дефектообразования, диффузию и активацию легирующей примеси в кремнии


×

HTML:





Ссылка: