'

XVI конференция молодых ученых и специалистов ОИЯИ

Понравилась презентация – покажи это...





Слайд 0

XVI конференция молодых ученых и специалистов ОИЯИ ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ ВЛИЯНИЯ ПРОЦЕССОВ СОРБЦИИ НА ВТОРИЧНУЮ ЭЛЕКТРОННУЮ ЭМИССИЮ А.Ю. Рудаков ОИЯИ ЛЯП СЭО Дубна 2012 1/19 А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 1

Вторичная электронная эмиссия - явление испускания твердыми телами вторичных электронов при их бомбардировке пучком первичных электронов. Распределение вторичных электронов по энергии - истинно вторичные e- - неупруго отражённые e- - упруго отражённые e- 2/19 Вторичная электронная эмиссия Зависимость КВЭЭ от энергии первичных электронов N1, I1 – первичные электроны N2, I2 – вторичные электроны А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 2

Электронные облака - пространственное динамическое распределение электронов, образованное в пучковой камере из первичных электронов резонансным вторично-эмиссионным размножением их на стенках камеры. Плотность электронных облаков зависит от коэффициента вторичной электронной эмиссии поверхности стенок вакуумных камер. Формирование электронных облаков можно промоделировать специализированными программами (например ECLOUD). 3/19 Электронные облака А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 3

4/19 Образование электронных облаков А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 4

Схема эксперимента по измерению КВЭЭ 5/19 А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 5

6/19 А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию Схема эксперимента по измерению КВЭЭ


Слайд 6

1 – Изолятор ввода 2 – Вакуумная камера 3 – Пластины-образцы 4 – Люминофор 7/19 Схема крепления пластин образцов А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 7

8/19 Стенд «Рекуператор» electron gun target HV power supply cool system А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 8

9/19 КВЭЭ А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию uA Utarget Вид сверху Вторичная электронная эмиссия


Слайд 9

10/19 КВЭЭ А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию SEY - Secondary Electron Yield SEY(Ee) P?10-8 Tor Ucath = -1,5kV Импульсный режим


Слайд 10

11/19 КВЭЭ А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию SEY - Secondary Electron Yield SEY(Ee) P?10-8 Tor Ucath = -1,5kV Импульсный режим


Слайд 11

12/19 КВЭЭ Условия эксперимента КВЭЭ с поверхностей образцов измерялся при следующих условиях: 1. Образцы «подвешивались» под регулируемый потенциал (±Utarget). При этом потенциал катода и образца изменялись так, что сохранялась выбранная величина энергии электронов, падающих на пластину-образец. 2. Очистка пластин-образцов производилась электронным пучком а) на измеряемой энергии б) по всему диапазону энергии от 50 эВ до потенциала катода с шагом 50 эВ 3. Ток электронного пучка: а) Постоянный – при очистке пластин-образцов и измерении КВЭЭ б) Импульсный – при измерении тока вторичных электронов с очисткой образца или без. В данном режиме ток первичных электронов не измерялся А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 12

13/19 Десорбция электронным пучком КВЭЭ А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию P = 10-8 Тор q/s= 300 uC/mm2 (Ie1) Ucath-Utarget


Слайд 13

14/19 Десорбция электронным пучком КВЭЭ А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию P = 10-8 Тор q/s= 300 uC/mm2 (Ie1) Ucath-Utarget


Слайд 14

15/19 КВЭЭ wo – образец без покрытия (контрольный) with – образец с покрытием TiN Очистка пластины производилась только на энергии измерения КВЭЭ P = 10-8 Тор q/S ? 10 мКл/мм2 А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию SEY(Ee) Ucath Энергетический спектр


Слайд 15

Ucath 16/19 Предварительная очистка производилась по всему измеряемому спектру энергий wo – образец без покрытия (контрольный) with – образец с покрытием TiN q/S ? 10 мКл/мм2 КВЭЭ А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию SEY(Ee) P = 10-8 Тор Энергетический спектр


Слайд 16

17/19 А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию КВЭЭ Абсорбция остаточного газа P = 3*10-8 Тор [TiN] Импульсный режим P = 2*10-8 Тор [wo] P = 10-8 Тор [wo] P = 10-8 Тор [TiN]


Слайд 17

18/19 КВЭЭ Абсорбция остаточного газа Коэффициент вторичной эмиссии для выбранного материала зависит от степени очистки. Степень очистки зависит от плотности заряда чистящего электронного пучка, давления остаточного газа и температуры поверхности стенок вакуумных камер. SEY^ при q/Sv, P^, T^ А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 18

19/19 1. Измерения изменения КВЭЭ от времени с пластин при чистящем электронном пучке (десорбция) и без него (абсорбция). а) Сравнительные измерения при вакууме: 10-7 ? 10-9 Тор б) Сравнительные измерения при температуры пластин-образцов: 300 °K, 500 °K Экстраполировать полученные результаты на вакуум 10-10 Тор и температуру 10 °K 2. Измерения при вакууме 10-10 Тор и лучше с использованием криогенного насоса. 3. Отработка методик очистки поверхностей электронным пучком. 4. Работа с покрытиями другого состава: TiZrV, TiCN, TiZr (сотрудничество c Госкорпорацией «Порошковая металлургия», г.Минск) Ближайшие планы А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


Слайд 19

20/20 Спасибо за внимание А.Ю. Рудаков, Исследование влияния процессов сорбции на вторичную электронную эмиссию


×

HTML:





Ссылка: